ASML：仍未獲得向中國出口最新曝光機許可

環球時報報導，路透社消息，荷蘭光刻機巨頭 ASML 首席執行長彼得‧溫尼克（Peter Wennink）19 日表示，截至目前仍未獲得出口中國製造晶片最新曝光機（Mask Aligne）的許可。

ASML是曝光系統的主要製造商，曝光系統主要用於製造晶片。之前報導，美國政府壓力下，荷蘭政府拒絕授予ASML出口這些機器的許可，理由是這些機器是有軍事用途的「兩用」商品。

先前報導2020年第三季財報發表後，ASML執行副總裁及CFO羅傑‧達森（Roger Dassen）受訪指出，如果ASML從荷蘭向中國客戶銷售DUV（深紫外線）曝光系統，不需要出口許可證；但如果向中國客戶直接出口涉及美國方面的零組件及系統，照美國要求，就必須獲得出口許可。這意味著，比DUV更先進的EUV（極紫外光）曝光機的確不能直接賣給中國。

ASML計劃今年將生產能力提高到55台EUV設備，到2023年達到每年超過60台；2020年生產35台EUV光刻機。2021財年第二季財報顯示，ASML前三大設備出貨地分別是南韓39%、台灣36%、中國17%，當季共出貨72套曝光系統（含9台EUV）。

彼得‧溫尼克認為，中國目前不太可能獨立掌握頂級曝光技術，因ASML仰賴「不懈的創新」，並整合只有非中國供應商才能獲得的組件；但中國並非永遠無法掌握頂級曝光技術，「因為我們知道的物理定律，中國人也知道，他們一定會努力掌握這項技術；永遠不要說得太絕對，他們肯定在嘗試。」

（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：ASML）