ASML:仍未獲得向中國出口最新曝光機許可

作者 | 發布日期 2022 年 01 月 21 日 9:40 | 分類 國際貿易 , 晶圓 , 晶片 Telegram share ! follow us in feedly


環球時報報導,路透社消息,荷蘭光刻機巨頭 ASML 首席執行長彼得‧溫尼克(Peter Wennink)19 日表示,截至目前仍未獲得出口中國製造晶片最新曝光機(Mask Aligne)的許可。

ASML是曝光系統的主要製造商,曝光系統主要用於製造晶片。之前報導,美國政府壓力下,荷蘭政府拒絕授予ASML出口這些機器的許可,理由是這些機器是有軍事用途的「兩用」商品。

先前報導2020年第三季財報發表後,ASML執行副總裁及CFO羅傑‧達森(Roger Dassen)受訪指出,如果ASML從荷蘭向中國客戶銷售DUV(深紫外線)曝光系統,不需要出口許可證;但如果向中國客戶直接出口涉及美國方面的零組件及系統,照美國要求,就必須獲得出口許可。這意味著,比DUV更先進的EUV(極紫外光)曝光機的確不能直接賣給中國。

ASML計劃今年將生產能力提高到55台EUV設備,到2023年達到每年超過60台;2020年生產35台EUV光刻機。2021財年第二季財報顯示,ASML前三大設備出貨地分別是南韓39%、台灣36%、中國17%,當季共出貨72套曝光系統(含9台EUV)。

彼得‧溫尼克認為,中國目前不太可能獨立掌握頂級曝光技術,因ASML仰賴「不懈的創新」,並整合只有非中國供應商才能獲得的組件;但中國並非永遠無法掌握頂級曝光技術,「因為我們知道的物理定律,中國人也知道,他們一定會努力掌握這項技術;永遠不要說得太絕對,他們肯定在嘗試。」

(本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載;首圖來源:ASML

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