在台灣就能成為全球未來品牌榜首的一份子，ASML 今年擴大徵才上千人

農曆新年後許多人開始思考轉職機會，台灣人要如何一步踏上全球百大品牌行列，成為國際級企業最搶手的人才呢？其實，全球百大品牌榜單第一名企業與台灣的距離，比我們想像的更近，那就是艾司摩爾。

由四大會計師事務所 PwC 邀請全球三千位專家評選出的「未來品牌指數」，2021 年的榜首不再是稱霸多年的 Apple Inc（蘋果公司），而由來自荷蘭的 EUV 巨擘 ASML（艾司摩爾）取而代之。正如同台灣與荷蘭有著深厚的歷史關係，其實 ASML 與台灣也一樣脣齒相依。

許多人可能不知道，ASML 在全球共有 7 座製造中心，台灣就佔了 2 座。2021 年 ASML 台灣員工人數超過 3,600 人，而台灣同時也是 ASML 亞洲最大、最完整的據點。為什麼荷蘭曝光微影設備大廠，會如此看重台灣呢？要解答這個問題，就必須先理解 EUV 的重要性。

最先進的製程，最堅強的羈絆

半導體製作過程中的關鍵製程叫做微影曝光，目的是能夠將電路設計圖印在矽晶片上，其中 EUV 極紫外光微影（Extreme UltraViolet），就是當前最先進的技術，提供更精密的電路圖案曝光，目前我們常聽見的 7 奈米製程，就仰賴使用 EUV 設備來製作。

由於技術門檻極高，全世界擁有微影技術，能夠生產曝光機的廠商非常稀少，但 EUV 設備更是少之又少。說「少」還不夠精準，事實上，目前全世界只有「一家」廠商有能力量產 EUV 微影設備，那就是 ASML。

在半導體產業中，先進製程與 EUV 可直接畫上等號，台積電、三星、英特爾都需要依賴 EUV 設備才能生產出 7 奈米或更先進製程的晶片，不難想像 ASML 在這個產業的地位舉足輕重。除了 EUV，ASML 的 DUV（深紫外光）曝光設備則是目前半導體產業量產晶片的主力技術，包括浸潤式與乾式微影技術，提供各種節點與製程的解決方案。而讓 ASML 與台灣關係變得如此緊密的其中一項關鍵，就在於這項浸潤式曝光設備上。

話說 2004 年，半導體產業正在嘗試突破 193 奈米光源製程，但必須將光源大小縮小至 153 奈米，使得研發難度頗高，當時 ASML 規模與現在不同，相比其他曝光機廠商仍是小公司，但他們與台積電合作嘗試全新的水介質曝光，開發出浸潤式曝光設備，依然使用 193 奈米光源，效果卻比 157 奈米更好。新設備精度高、成本低、研發速度快，讓 ASML 五年內拿下曝光機全球過半市佔，與台積電成為最堅強的同盟。

時至今日，ASML 在先進製程曝光機市佔率已是 100%，台積電也因此成為先進製程最大供應商，雙方共存共榮共好，正是 ASML 如此重視台灣的原因。

▲ 深化與這塊土地的連結， ASML 推出限量新年禮盒，點擊活動頁面就有機會收到來自 ASML 的暖心小品。（Source：科技新報攝）

ASML 其實是一家 3C 企業？

艾司摩爾是 EUV 龍頭，難道也有生產 3C 產品嗎？其實這裡的 3C 指的是 ASML近年來推動的企業價值觀，包括 Challenge、Collaboration 和 Care。

許多企業都強調要員工去挑戰自我，但 ASML 的 Challenge 更傾向於「勇於表達」，邀請員工換位思考進行辯論，對於工作上有所質疑時，要能夠問對問題命中核心，唯有如此，公司全體才能不斷進步，也是挑戰奈米世界極限的最佳方式。

ASML 對外重視合作與盟友，對內也一樣，荷蘭與台灣一樣是個小國家，如何在全球半導體供應鏈中站穩關鍵位置，靠的就是水平與垂直的合作。要在最尖端技術領域有所突破，不僅團隊內部要合作，甚至還要與客戶跟供應商合作，才能從數百種方法中找出最有效的手段。身為國際級龍頭企業，ASML 員工來自 120 個不同國家，即使在台灣，也有多達 25 個不同國籍的人才共同工作。面對冰冷的儀器與複雜的計算，企業不僅要有技術硬實力，也必須兼顧員工之間的「軟實力」，鼓勵員工互相 care 彼此，學習跨國、跨文化、跨領域的溝通能力，才能傾聽與關懷。

在 3C 原則指引下，ASML 發展出「思考辯證、互為楷模」的團隊精神，在過去 20 年拼出最尖端技術，今年他們要繼續擴大投入，實踐「愛才若渴」，光是在台灣就預計要招募 1,000 位人才，一起跟摩爾定律賽跑，繼續推動次世代技術。

▲ 在 ASML 推出的新年禮盒中，特製撲克牌上印有 ASML 身為國際龍頭企業的發展里程碑以及治理理念。（Source：科技新報攝）

▲ 「愛才若渴、思考辯證、互為楷模、戚戚具爾」為 ASML 在 3C（Challenge、Collaboration、Care）管理思維架構下發展出來的人才培育以及團隊向心力養成精神，荷蘭血統的 ASML 送上來自荷蘭的幸運晶圓餅，享用時可同時探知 ASML 成功的秘密。（Source：科技新報攝）