孔徑數從 0.33 到 0.7,一手掌握 ASML EUV 發展布局 作者 Atkinson | 發布日期 2022 年 06 月 30 日 14:15 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 | edit Loading... Now Translating... SemiWiki 報導,2022 SPIE 高階微影曝光大會,極紫外光微影設備(EUV)大廠艾司摩爾(ASML)介紹 EUV 最新進展,外界可了解 EUV 發展過程及未來發展計畫,將對半導體先進製程發展有關鍵影響力。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: ASML , EUV , 半導體設備 , 艾斯摩爾