益華數位、客製/類比設計流程獲台積電 N4P 與 N3E 製程認證

作者 | 發布日期 2022 年 11 月 03 日 10:12 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 晶圓 line share follow us in feedly line share
益華數位、客製/類比設計流程獲台積電 N4P 與 N3E 製程認證


電子設計業者益華電腦(Cadence)今日宣布,數位與客製/類比設計流程通過台積電 N4P 與 N3E 製程認證,支援最新設計規則手冊(DRM)與 FINFLEX 技術;雙方共同客戶已經開始使用最新的台積電製程技術和經過認證的 Cadence 流程來實現更佳的功率、效能和面積(PPA)目標,加速產品上市。

益華表示,最新的數位全流程支援台積電 N4P 和 N3E 製程技術的幾個關鍵功能,包括從合成到簽核工程變更(ECO)的原生混合高度單元行優化,以實現最佳的PPA;基於標準儲存格行的放置;實現結果與簽核密切相關,以實現更快的設計收斂;通過 pillar 支援增強,以獲得更好的設計性能等。

而在客製/類比流程認證方面同樣也獲得台積電最新 N4P 和 N3E 製程技術認證,這些工具包括 Virtuoso 電路圖編輯器、Virtuoso ADE 產品套裝和 Virtuoso 布局套裝,以及 Spectre 模擬平台等。

益華強調,雙方共同客戶可採用已獲認證的增強型 N4P 和 N3E 流程製程設計套件進行設計,而針對 N4P 和 N3E PDK進行優化的流程,將為工程師提供了簡易的類比遷移、最佳 PPA 和更快的上市時間;未來會持續與台積電聯手加速下世代行動裝置、車用、人工智慧和超大規模運算設計創新。

台積電設計基礎設施管理事業部負責人 Dan Kochpatcharin 則表示,透過與Cadence密切合作,確保客戶可以放心使用最先進的 N4P 和 N3E 技術以及經過認證的 Cadence 數位和客製/類比流程,滿足嚴格的功率和性能要求,並迅速將他們下一代矽創新推向市場。

(首圖來源:The original uploader was King4057 at English Wikipedia., CC BY-SA 3.0, via Wikimedia Commons)