中國 7 奈米以下晶片有救?華為秀 EUV 曝光技術,外媒不看好 作者 林 妤柔 | 發布日期 2022 年 12 月 27 日 14:09 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 會員專區 | edit Loading... Now Translating... 為了降低美國晶片限令影響,華為 11 月秀出新極紫外光(EUV)曝光新技術專利,暗示生產 7 奈米以下晶片的可能性。不過外媒 Tom′s Hardware 認為,申請專利不代表能製造 EUV 設備,背後有許多廠商、最先進零組件合作,目前只有艾司摩爾(ASML)成功。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: ASML , EUV 設備 , 艾司摩爾 , 華為