Tag Archives: EUV 設備

Rapidus 2 奈米廠傳 2024 年底導入EUV，派員至 ASML 學習技術
作者 |發布日期 2023 年 12 月 06 日 11:00 |
line share
line share
分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備

目標將次世代半導體（晶片）國產化，由日本官民合作設立的半導體研發/製造/銷售公司 Rapidus 正在北海道打造 2 奈米（nm）晶片工廠，目標 2027 年量產，而據悉 Rapidus 決定在 2024 年底導入「EUV」（極紫外光）微影設備，且將派員至荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASMLHolding）學習 EUV 技術。 繼續閱讀..

中國 7 奈米以下晶片有救？華為秀 EUV 曝光技術，外媒不看好
作者 |發布日期 2022 年 12 月 27 日 14:09 |
line share
line share
分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

為了降低美國晶片限令影響，華為 11 月秀出新極紫外光（EUV）曝光新技術專利，暗示生產 7 奈米以下晶片的可能性。不過外媒 Tom′s Hardware 認為，申請專利不代表能製造 EUV 設備，背後有許多廠商、最先進零組件合作，目前只有艾司摩爾（ASML）成功。 繼續閱讀..

ASML 擴大投資，供應鏈營運有底氣
作者 |發布日期 2022 年 11 月 17 日 14:15 |
line share
line share
分類 半導體 , 材料、設備 , 零組件

全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）近來頻傳好消息，不僅在近次投資人會議中上修 2025 年展望，並同步宣布極紫外光（EUV）曝光機大擴產計畫，更計劃在南韓與台灣擴大投資，成為當前半導體景氣飄搖之下，少數逆勢加大投資的公司。法人認為，ASML 的積極布局態度，有望為台系供應鏈挹注中長期動能。 繼續閱讀..

晶圓擴廠還不夠，英特爾超車台積電「關鍵在 ASML」
作者 |發布日期 2021 年 09 月 09 日 9:24 |
line share
line share
分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

處理器龍頭英特爾 8 日宣布，計劃 10 年內在歐洲新建造至少兩家晶圓廠，投資金額高達 800 億歐元，同時更新愛爾蘭晶圓廠，當成專門生產車用晶片的據點。《華爾街日報》指出，英特爾救星的確在歐洲，但並非晶圓廠，而是需從艾司摩爾（ASML）獲得尖端工具，縮小與台積電的差距。 繼續閱讀..

台積電成長曲線就看這家！關鍵元件缺料 ASML 預告：產能要到「這時候」才能滿載
作者 |發布日期 2021 年 01 月 31 日 10:00 |
line share
line share
分類 晶圓 , 材料、設備

艾司摩爾（ASML）在日前的 2020 年第 4 季與全年財務電話會議，會議中揭露了，艾司摩爾 2020 年全年營收達到 140 億歐元，其中有 45 億歐元的收入來自 EUV（極紫外光微影）設備的銷售，而 DUV（深紫外光微影）設備則是創下 73 億歐元的紀錄。總裁暨執行長 Peter Wennink 表示，2021 年的 EUV 設備供應仍將因關鍵元件備貨不足而持續吃緊。 繼續閱讀..