輝達（Nvidia Corp.）為了推動人工智慧（AI）發展、迎接全新晶片製造時代，宣布推出可讓晶圓代工廠加快蝕刻體積更小電晶體的軟體及一系列商用 AI 產品，台積電、荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding N.V.）及美國電子設計自動化（EDA）軟體商 Synopsys 都是合作夥伴。
輝達執行長黃仁勳（Jensen Huang）21日在年度GPU技術大會（GTC）宣布推出「cuLitho」軟體庫，能改善運算式微影技術（computational lithography）。運算式微影技術主要透過演算法提升蝕刻至矽晶圓的電晶體解析度。「cu」代表輝達的CUDA平行運算及App平台。
輝達表示，台積電及Synopsys都會使用cuLitho軟體庫，而ASML則將跟輝達合作，把GPU支援整合至微影軟體。
黃仁勳透過聲明稿表示，「晶片產業是世界上幾乎所有產業的基石。有鑑於微影技術已達物理極限，輝達決定推出cuLitho軟體庫並跟夥伴台積電、ASML、Synopsys合作，讓晶圓廠增加產出效率（ throughput）、減少碳足跡，也替2奈米及更微小的製程打下基礎。」
MarketWatch報導，cuLitho軟體庫負責人Vivek Singh 21日在媒體電話會議上，雖無法對輝達的軟體定價策略或商業模式做出具體回應，但提到軟體庫可在關鍵處協助晶片製造商。
根據聲明稿，cuLitho軟體庫可讓內建500顆輝達「DGX H100」GPU資料中心的工作量，媲美內建40,000顆CPU的系統。這能減少用電及空間需求，也可降低對環境的衝擊。
不只如此，運用cuLitho軟體庫的晶圓廠還可將每日光罩產量提升3~5倍，用電量卻比當前組態少9倍（從35 MW減至5 MW）。也就是說，之前得花兩週才能完成的光罩，現在只消一晚即可製出。
台積電總裁魏哲家透過聲明稿表示，cuLitho團隊在加快運算式微影技術方面有了令人欽佩的進展，方式是將昂貴的運作轉移至GPU。最新發展為台積電開啟新的可能性，能更加廣泛地部署反向微影技術（inverse lithography technology）和深度學習（deep learning）等微影解決方案，進而對半導體縮放的延續性做出重要貢獻。
台積電ADR 21日聞訊勁揚2.73%、收92.50美元，創2月15日以來收盤新高；年初迄今已跳漲24.18%。輝達同步上漲1.15%、收261.99美元，創2022年4月4日以來收盤新高；年初迄今飆漲79.27%。
（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：shutterstock）
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