ASML 交貨英特爾首套 High-NA EUV 曝光機，總價逾 3 億美元

曝光機大廠 ASML 21 日宣布，已運送業界首套數值孔徑為 0.55（High-NA）極紫外線（EUV）曝光機給英特爾。英特爾之前表示，首套 High-NA EUV 曝光機將用於學習如何生產 Intel 18A 先進製程，有望使英特爾領先對手台積電和三星。

ASML 發言人表示，已出貨第一套 High-NA EUV 曝光機給英特爾。如 9 月宣布，機器從荷蘭 ASML 總部運往英特爾俄勒岡州晶圓廠安裝。High-NA EUV 曝光機體積非常大，需 13 個大貨櫃才能裝完。每套 High-NA EU V 曝光機成本約 3 億至 4 億美元。

英特爾表示，會使用最新設備學習生產 Intel 18A 製程，2025 年量產。配備 0.55 NA 透鏡的高 High-NA EUV 曝光機達 8 奈米解析度，比 0.33 NA 透鏡、13 奈米解析度標準 EUV 曝光機顯著提升。High-NA 將在 2 奈米及更先進製程發揮重要作用。

因 High-NA EUV 曝光機與標準 EUV 曝光機差異不小，需大量修正基礎設施，故領先對手幾季部署對英特爾是很大優勢。英特爾有充足時間調整 Intel18A 製程，一方面調整 High-NA EUV 曝光機基礎設施。

(首圖來源：ASML)