晶圓代工龍頭台積電 18 日法說會召開在即，業界傳出，半導體微影設備製造龍頭艾司摩爾（ASML）現任商務長、下一任執行長兼總裁富凱（Christophe Fouquet）近日將率高層來台拜訪台積電與供應商，目的在於討論 EUV（極紫外光）設備供應與發展、下世代機台相關規劃，凸顯雙方在先進製程的未來將持續緊密合作。
ASML去年11月30日宣布，該公司監事會將在今年4月股東大會上提名Christophe Fouquet（法籍，1973 年生）為 ASML 新任執行長兼總裁。而現任聯合總裁 Peter Wennink（1957 年生）及 Martin van den Brink（1957 年生）在新任命後即將卸任。
據供應鏈消息，Christophe Fouquet將與多名高層一同訪台，與台積電總裁魏哲家、各部門主管緊密溝通。事實上，ASML高層每年都有亞洲拜訪客戶行程，僅2020年因防疫措施而有例外、沒親訪台積電，如今在2024年開春首月造訪，顯示其重視度。
台積電自7+奈米開始導入EUV設備，之後的5奈米、3奈米則是全製程採用，已是ASML的最大客戶。分析師則預期，相較於英特爾率先取得High-NA EUV曝光機，預計在未來兩到三年內用於intel 18A後的節點，台積電應會採取較為謹慎的策略，或在A14製程之後才會導入。
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