晶片製造邁入「零度以下」：SK 海力士擬在 -70°C 生產 3D NAND
作者 | 發布日期 2024 年 05 月 07 日 11:59 | 分類 晶片 , 會員專區 , 材料、設備 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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晶片製造邁入「零度以下」：SK 海力士擬在 -70°C 生產 3D NAND

SK 海力士正在測試東京威力科創（TEL）最新的低溫蝕刻工具，可在 -70°C 工作，以實現 400 層以上新型 3D NAND。

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