因政治考量淡化重要性!中國半導體自主挑戰清單「未列曝光機」 作者 林 妤柔 | 發布日期 2024 年 07 月 09 日 10:50 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 | edit Loading... Now Translating... 中國科學技術協會(CAST)最近列出中國半導體產業面臨的挑戰,但沒列到曝光技術。業界認為,排除曝光技術更像政治考量,以淡化美國制裁對中國本土晶片製造業的影響,而不是讓中國曝光設備創新。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: ASML , EUV , 中國半導體 , 曝光設備