ASML 第二台 High-NA 設備，即將導入英特爾奧勒岡廠

英特爾正接收 ASML 第二台耗資 3.5 億歐元（約 3.83 億美元）的新 High NA EUV 設備。根據英特爾 8/1 財報電話會議紀錄，執行長 Pat Gelsinger 表示，英特爾 12 月開始接收第一台大型設備，安裝時間需要數月，預計可帶來新一代更強大的電腦晶片。

Gelsinger 在電話中指出，第二台 High NA 設備即將進入在奧勒岡州的廠房。

由於英特爾財報會議後股價表現不佳，因此這番話並未引起注意。

ASML 高階主管 7 月曾表示，該公司已開始出貨第二台 High NA 設備給一位未具名客戶，今年只記錄第一台的收入。不過，客戶何時採用仍存在一些疑問。

ASML 已獲得十多台 High NA 機器的訂單，客戶包括台積電、三星、英特爾、美光及 SK 海力士。英特爾計劃 2027 年前將此技術用於量產，台積電也將於今年收到設備，但還沒透露何時投入生產。

ASML 執行長 Christophe Fouquet 於 7 月 17 日表示，DRAM 記憶體晶片製造商，這可能意指三星、SK 海力士或美光，可能 2025 或 2026 年開始使用 High NA 設備。

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（首圖來源：ASML）

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