日本第一台、EUV 設備 12 月中旬送抵，Rapidus 要用

日本官民合作設立的晶圓代工廠 Rapidus 正在北海道千歲市興建工廠、目標 2027 年量產 2 奈米（nm）晶片。而 Rapidus 訂購的極紫外光（EUV）微影設備將在 12 月中旬送抵北海道新千歲機場，這將是日本國內導入的第一台 EUV 微影設備。

日經新聞14日報導，將設置在Rapidus北海道工廠的EUV微影設備將在12月中旬送抵北海道新千歲機場，這將是日本國內導入的第一台EUV微影設備、將利用多架大型貨機運送。

EUV微影設備是量產最先進晶片所不可或缺的，1台要價數百億日圓，Rapidus未來規劃導入數台EUV設備。生產EUV設備的艾司摩爾（ASML）將在千歲市內設置服務據點。

據報導，Rapidus計劃在2025年4月試產2奈米晶片，據社長小池淳義指出，包含EUV設備在內、北海道工廠內「將導入2百多台設備」。據千歲市指出，工廠工程進度（10月底）為63%、照計畫進行。在11月中旬時、有約4,400名工人參與工廠興建。

（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：Rapidus）

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