外媒報導，今年稍早華為和中芯國際開發 5 奈米製程，達成新里程碑。但晶圓是中芯國際用較舊 DUV 曝光機生產，故良率悽慘。現階段這問題也延續至 7 奈米製程，且台積電早在 2018 年就量產 7 奈米，代表中芯國際落後競爭對手多世代。
Wccftech 報導，新市場報告指出，儘管獲中國政府大量補助，中芯國際仍無法突破 7 奈米障礙，代表華為到 2026 年前只能使用舊技術。近期美國實施更嚴格貿易制裁，華為人工智慧晶片落後達三代，加上台積電通知中國客戶，美國商務部規定故不再提供 7 奈米產品，華為 7 奈米其他選擇幾乎為零，唯一方案依舊只能靠中芯國際，但現在這唯一廠商也有生產障礙。
ASML 是台積電和三星等先進 EUV 曝光機唯一廠商，美國禁止出售設備給中芯國際後，只能用 DUV 曝光機生產，中國政府雖可能撥巨款補助中國廠商開發 EUV，但達成可能需要好幾年。熟悉中芯國際和華為的人士表示，兩家公司至少到 2026 年，只能用 DUV 限量生產 7 奈米。
更糟的是，即使用 DUV 曝光機，中芯國際 7 奈米良率仍苦苦掙扎，代表要進階到 5 奈米更難達成，且導致高額虧損。最近市場消息，華為即將上市 Mate 70 系列智慧手機，將搭載麒麟 9100 處理器。據說麒麟 9100 為 6 奈米節電製程，新 CPU 架構，但可能只是 7 奈米改良版，只增加電晶體量，沒有其他變化。
華為將來能否繼續前進，取決於中芯國際能否成功量產新製程，並有健康良率。不過中國政府幾乎無上限補助，達成目標應該沒有疑問，但時間點不會是現在就是了。
(首圖來源：中芯國際)
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