ASML 推 High-NA EUV 樂高模型,851 個零件復刻全球最貴曝光機

作者 | 發布日期 2024 年 12 月 02 日 16:51 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 科技趣聞 line share Linkedin share follow us in feedly line share
ASML 推 High-NA EUV 樂高模型,851 個零件復刻全球最貴曝光機


全球半導體設備龍頭 ASML 宣布將最先進曝光機「樂高化」,推出 High-NA EUV 曝光機 Twinscan EXE:5000 樂高模型,售價 227.95 美元(約新台幣 7,400 元),雖然價格相當高,但已比實機造價 3.8 億美元便宜多了。

ASML High-NA EUV 曝光機為 0.55 數值孔徑的投影光學設備,英特爾也用這台設備研發 Intel 18A(1.8 奈米級)製程。

ASML TWINSCAN EXE:5000 樂高模型由 ASML 工程師 Rick Lenssen 打造,總共 851 個零件,完成最後一塊樂高後,模型尺寸為 13.86×3.9×2.52 吋,頗有收藏價值。

ASML 相當看好 TWINSCAN EXE:5000 樂高版銷量,故每人限購入一套。ASML 也推出過樂高版 ASML Skyline 和 TWINSCAN NXE:3400C 模型,後者還在架上,售價 166.70 美元。

ASML 工程師 Rick Lenssen 曾花一年半設計荷蘭總部藍圖,再用一年將 2.5 萬片樂高積木固定並拼出總部細節。

(首圖來源:ASML

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