少 EUV 設備難追上台積，ASML 執行長：中國將落後西方 10~15 年

全球半導體設備龍頭 ASML 執行長 Christophe Fouquet 表示，雖然中芯國際和華為在半導體領域取得令人印象深刻的進展，但相較英特爾、台積電和三星等業界巨頭，仍有 10~15 年的差距。

Christophe Fouquet 在接受 NRC 訪問時表示，「禁止出口 EUV 設備，使中國落後西方 10~15 年，這確實有影響」。即使擁有一流的 DUV 設備，中芯國際的成本效益仍無法與台積電媲美，因為無法獲得最先進 EUV 曝光設備。

過去有報導稱，中芯國際曾訂購一台 EUV 設備，但由於「瓦聖納協定」的限制，ASML 從未向中國出貨此類設備，另由於美國制裁，這台設備也沒有交貨至中國代工廠。不過，ASML 仍持續向中國出貨先進的 DUV 曝光設備，例如 Twinscan NXT:2000i，支持生產 5 / 7 奈米晶片。

目前中芯國際使用第一代和第二代 7 奈米製程為華為生產晶片。由於 EUV 設備不會進入中國，華為及其合作夥伴正積極開發極紫外線曝光技術，以建立自家晶片製造設備與生態系統，但最多需 10~15 年。

ASML 及合作夥伴從基礎工作到完成商用機器，花超過 20 年建立 EUV 生態系統。1990 年代許多技術都是公開已知，因此中國公司不需從頭開發所有東西，但當中國半導體業開發 Low-NA EUV 設備時，西方已經擁有 High-NA EUV 技術、甚至是 Hyper-NA EUV 設備。

目前最大擔憂並非中國 15 年後開發 EUV 曝光設備，而是幾年內複製 ASML 主流 DUV 設備如 Twinscan NXT:2000i。美國政府已施壓 ASML，要求停止中國維護和維修先進的 DUV 系統，但荷蘭政府至今未同意此要求。ASML 也希望保留中國設備的控制權，避免敏感資訊外洩，若中國公司自行接手維護，晶片廠運作將面臨更大風險。

中芯國際、華虹半導體及長江存儲等中國企業是 ASML 的主要客戶，ASML 每年從銷售 DUV 曝光設備中賺取數十億美元。若中國設備廠商成功開發自有 DUV 系統，可能減少採購量、降低對 ASML 的依賴，甚至可能出口至中國以外的市場，直接與 ASML 展開競爭。

儘管中國短期內製造出與 Twinscan NXT:2000i 媲美的設備可能性不大，但複製舊設備仍有一定優勢，這對全球半導體設備市場產生深遠影響。