恩萊特科技日前參加集邦科技「半導體新篇章│摩爾定律後的技術創新與產業趨勢」論壇。演講中深入解析矽光子技術的核心概念、設計挑戰與未來發展。從矽光子晶片的基礎元件設計，到精準光路布局，再到共同封裝光學（CPO）等異質整合方案，結合實際案例與工具應用，展現矽光子技術如何突破摩爾定律限制，實現更快、更省電的數據傳輸。現場與會者反應熱烈，會後交流踴躍，凸顯恩萊特科技在半導體創新的領導地位。
矽光子技術：後摩爾定律的關鍵解方
在 AI 數據中心與高速通訊需求激增的推動下，矽光子技術成為後摩爾定律時代的解方。恩萊特科技的 PIC Studio 全流程設計平台整合元件設計、光路佈局與系統驗證，將複雜光子電路轉化為可量產方案。結合台灣在製造與封裝測試的領先優勢，這套工具不僅加速矽光子技術推進，更將催生矽光子生態系，類似類似電子積體電路（EIC）歷史發展，為半導體產業注入新動能。
全方位設計工具與台灣優勢共創未來
PIC Studio 統一設計平台整合五大關鍵模組，為客戶提供從元件、線路到系統層級的完整設計流程：
- PhotoCAD：支援光電整合布局設計，大幅提升設計效率。
- pSim / pSim Plus：提供業界領先的光電共同模擬能力，精確預測晶片性能。
- Advanced SDL：實現圖形化介面的布局自動化設計及 LVS 檢查。
- pMaxwell：提供元件模擬解決方案。
- pVerify：執行全面設計規則檢查，確保設計可靠性。
恩萊特科技強調，PIC Studio 全流程設計平台不僅是設計工具，更是產業創新的加速器，助力台灣在後摩爾定律時代站穩全球技術舞台。恩萊特總經理蘇正宇表示：「看到現場來賓對矽光子技術的熱烈回饋，讓我們感受到矽光子產業的潛力。台灣具備切入此浪潮的絕佳條件，期待與產業夥伴合作共同搶占矽光子市場！」
（首圖來源：恩萊特科技；首圖圖說：恩萊特科技分享矽光子技術的前瞻應用，協助客戶在矽光子生態系中加速創新；資料來源：恩萊特科技）
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