黃仁勳：GAA 電晶體提升輝達下代 GPU 性能達 20%

外媒報導，GPU 大廠輝達 (NVIDIA) 執行長黃仁勳日前在 GTC 2025 的問答時段中表示，依靠環繞式閘極 (GAA) 電晶體的下代製程，可能提升輝達 GPU 性能達 20%。黃仁勳指的下代 GPU，應該是 2028 年 Feynman 了。

Tom′s Hardware 報導，黃仁勳似乎淡化製程變化的重要性，強調摩爾定律放緩代表新製程密度、功率或效率方面，只會有 20% 左右改進。儘管先進製程改進值得歡迎，但不再有變革性。我們接受，但其他因素更重要，人工智慧規模擴大，管理大量 GPU 的效率比每個 GPU 原始性能更重要。

傳統輝達通常不會先採台積電最新製程，而選擇較成熟製程。輝達以台積電 4 奈米生產消費級及資料中心 Ada Lovelace、Hopper 和 Blackwell 等 GPU，雖 4 奈米是 5 奈米改良版。輝達下代 GPU RuBin，採台積電 3 奈米製程，可能是 N3P 或客製化版。輝達首款採 GAA 的產品應是 2028 年 Feynman 架構。

台積電預計首款採用 GAA 技術的 N2 節點製程將比 N3E 性能提高 10% 到 15%，當然黃仁勳並沒有提及會採用哪家的 GAA 製程技術。所以，理論上台積電 N2 製程技術，還是三星的類似技術，甚至是 Intel 18A 都有其可能姓。而且輝達大概不會使用第一代製程技術，所以 Feynman 更可能會使用 N2 的改進版 N2P，以提高性能、降低電阻並穩定電力輸送。此外，台積電預計 N2P 和 A16 節點製程都在 2027 年投產，其 A16 節點製程將增加背面供電功能，性能會比 N2 提升 8% 至 10%。

報導強調，如果輝達在 Feynman GPU 上使用 N2P 或者 A16 節點製程，預計將會比採用 N3P 節點製程的 Rubin GPU 每瓦性能提高 20%，實際性能提升可能更高。不過，考慮到目前 AI 計算的巨大需求，輝達似乎更傾向追求最高性能，而不是達到最佳能耗。

(首圖來源：視訊截圖)