隨著 AI 晶片需求暴增,現有的 HBM(高頻寬記憶體)面臨缺貨、價格高昂及高功耗等挑戰,業界甚至開始尋求 LPDDR 作為替代方案。對此,半導體大廠英特爾最新曝光了名為「XBM」(Cross-Batch Memory)的超高頻寬記憶體架構專利,目的在未來取代 HBM4,並期望透過更低的成本與更高的頻寬來解決現有瓶頸。該技術預計將與英特爾的另一項 ZAM(Z-Angle Memory)技術同步,瞄準 2030 年之後的商業化市場。
根據最新專利資料,XBM 的核心優勢在於採用了 1T1C(一電晶體一電容)的後端 DRAM 技術。這項技術將電晶體製作於後段製程(BEOL)的金屬層中,而非傳統的前端矽晶圓上。這種設計大幅提升了晶片的面積效率,從而釋放更多空間來增加矽穿孔(TSV)的密度,帶來顯著的頻寬提升。
在規格方面,XBM 每個記憶體裸晶的容量設定在 0.5 至 5.0 GB 之間,並致力於維持與 HBM4 相同的晶片尺寸。其資料傳輸是透過 UCIe通用小晶片互連通道I/O 區塊進行,傳輸速度可高達 32 GT/s。另外,XBM 架構在每個子通道配置了 12 個資料區塊,並以 2 GHz 的頻率運作。
至於,在堆疊選擇上,XBM非常具備彈性,其 8 層堆疊的 XBM 可提供多達 96 個資料區塊,而 16 層堆疊(16-high)方案則高達 192 個資料區塊。此外,架構中包含了交替的子通道與 TSV 通道以實現高效率的資料路由,並配備內建自我測試、備援與修復功能。XBM 支援多種封裝形式,例如 MoP封裝內記憶體,能在更小的外觀尺寸下提供更高的頻寬與容量。
相較傳統 HBM 正面臨 TSV 面積開銷過大、佈線複雜度高以及功耗限制等問題。XBM 的設計正是為了克服這些痛點,外界推估其有望帶來高達 2 倍的總頻寬提升。在目前的市場競爭中,有高通提出的 HBC 技術來彌補 LPDDR 的頻寬問題與XBM相類似。雖然英特爾過去在 HMC 與 MCDRAM 等 DRAM 領域的嘗試均未能成功進入市場,但 XBM 與 ZAM 的推出象徵著英特爾正在修正其 DRAM 發展策略,準備在當前記憶體短缺的大環境下,強勢回歸並挑戰高階 DRAM 市場的領先地位。
(首圖來源:英特爾提供)






