中國宣稱 DUV 曝光機取得大突破，中國晶片股應聲大漲

據彭博社報導，中國宣稱本土半導體製造設備開發取得突破、有望克服美國制裁，消息一出中國晶片相關類股紛紛大漲。

長春奧普光電漲幅突破 10% 的日線限制，北京賽微電子漲幅高達 5.3%，中芯國際漲幅高達1.9%，北方華創則低於1%。投資人樂觀認為，中國對美國晶片設備出口限制取得進展，有助於加強中國半導體雄心。

中國工業和信息化部在 9 月公告「首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024 年版）」的通知中，列出可用於生產 65 奈米或以下晶片的氟化氬曝光機（DUV 曝光機），可減少對國外曝光設備的依賴。

據報導，氟化氬曝光機使用波長為 193 奈米的雷射做為光源，具備極高的解析度（小於或等於 65 奈米）和精準的套刻精度（小於或等於 8 奈米），可用於製造先進製程晶片。儘管中國工信部沒指明供應商，但該規格意味中國本土設備邁出一大步。

目前包括上海微電子在內的中國半導體設備公司，都競相開發可縮小與 ASML 等供應商差距的設備，目前美國禁止 ASML 出口先進設備給中國。從工信部的聲明可知，中國本土競爭對手已著手開發更複雜設備，並獲得進展，儘管上海微電子等同業要趕上 ASML 等公司還有很長一段路要走。

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（首圖來源：Unsplash）

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