Canon NIL 微影設備首度出貨，可生產 2 奈米

Canon 採用「奈米壓印」（Nano-imprint Lithography，NIL）技術的微影設備首度進行出貨，對象為美國半導體聯盟「Texas Institute for Electronics」（TIE）。NIL 微影設備可用來生產 5 奈米（nm）晶片，且經過改良、將可進一步用來生產 2 奈米晶片。而 Canon 表示，目標 3-5 年內、每年賣出十幾台。

Canon 26日發布新聞稿宣布，採用「NIL」技術、可用低成本製造高性能先進晶片的微影設備「FPA-1200NZ2C」將在當日出貨給位於美國德州的半導體聯盟「TIE」。此為Canon宣布在2023年10月開始販售NIL微影設備後首度進行出貨。

TIE設立於2021年、是由德州大學奧斯丁分校支援成立的半導體聯盟，由德州當地政府、半導體企業、國立研究所等所組成，而TIE將使用NIL微影設備研發、試產先進半導體。

據Canon指出，NIL微影設備可用來生產5奈米邏輯晶片，且經由改良、期待可進一步用來生產2奈米產品。

日經新聞報導，Canon光學設備事業本部副本部長岩本和德26日受訪表示，「目標在3-5年內、每年賣出十幾台」。

有別於現行的微影設備須藉由曝光、將電路圖案燒在晶圓上，NIL技術則是可像印章一樣，直接將圖案壓印在晶圓上，因可一次性就形成電路，縮短製程時間、更省電。Canon在10年前就和日本光罩廠大日本印刷（DNP）、鎧俠（當時為東芝）攜手研發NIL技術。

（本文由 MoneyDJ新聞授權轉載；首圖來源：Canon）