ASML EUV 壟斷難破解？中國半導體設備廠進擊與困局

ASML 從 1990 年代中期開始，廣泛地與晶片製造商、工具製造商和材料製造商合作發表論文，並在當時引入整合模組化語言（Unified Modeling language，UML）的軟體架構，在高度抽象與複雜度的研發環境，讓內外部科學家與工程師有共同藍圖與溝通工具，憑藉內外部研發與整合能力，迅速增強競爭實力。

ASML 成功成為 EUV 的霸主，仰賴於採取高度專業化分工策略，而 ASML 主要聚焦於研發與最終組裝。EUV 曝光機由超過 10 萬個零件組成、重達 180 噸，ASML 自製零件僅佔約 15%。根據 ASML 2024 年官方資料，其全球供應商數量超過 5,150 家，形成龐大且穩定的供應鏈體系。這項策略不僅提升研發效率，也能整合業界最先進光學、材料與精密機構技術。

1998 年時，ASML 成為最快從 KrF 轉進 ArF、推出 ArF 曝光設備的廠商，2001 年推出獨有的雙晶圓載台模組曝光系統 TWINSCAN，大幅提高生產效率和定位精度，種種突破讓 ASML 在 2002 年一舉超越競爭對手 Canon、Nikon，取得市占龍頭且持續迄今。

▲ 全球微影設備市場市佔率：ASML vs Nikon vs Canon。

同時為確保品質與供應穩定，ASML 與關鍵供應商簽訂長期合作協議，設立嚴格的 KPI 與品質標準，並透過技術支援、培訓甚至併購強化掌控力。

以德國光學大廠蔡司（Zeiss）為例，其為 ASML EUV 設備獨家打造世界上最精密的鏡片模組，加工精度小於一個矽原子的直徑，在此前雙方合作已逾三十多年。2016 年為深化雙方在 EUV 微影技術的合作，ASML 不惜以 10 億歐元現金收購蔡司旗下子公司 Carl Zeiss SMT 24.9% 的股權。

除了獨特且強大的系統整合能力，ASML 對於品質的要求與供應商布局之深，再樹立一道後進者難以跨越的競爭門檻。

中國半導設備廠從利基市場突圍

半導體設備市場有四大市場規模超過 100 億美元，包含曝光、乾式蝕刻、視覺檢測、CVD 設備市場，且皆由歐美與日本大廠所把持。

雖然在曝光設備市場，中國難以突破，但中國正從乾式蝕刻與物理氣相沉積設備市場逐漸崛起。以北方華創為首，其設備領域從蝕刻、PVD/CVD 沉積、清洗到後段測試、封裝，幾乎涵蓋所有半導體製程主要環節。 北方華創與中微公司，在全球乾式蝕刻市場市佔約 6%；北方華創於 PVD（物理氣相沉積）設備市佔達 12%。

2023 年，北方華創營收已擠進全球前十大半導體設備營收排行。其與中微半導體及被視為中資背景的盛美半導體，三者 2024 年營收年成長幅度高達 35%-48%，在全球半導體設備營收排行皆有顯著成長。

TrendForce 依據 2025 年第三季最新數據統計，北方華創全球市占排名第七，單季成長率約 42.1%，顯著高於其他排名前十大的廠商。