Tag Archives: 曝光技術

ASML EUV 壟斷難破解？中國半導體設備廠進擊與困局
作者 |發布日期 2026 年 01 月 19 日 11:00 |
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分類 中國觀察 , 半導體

ASML 從 1990 年代中期開始，廣泛地與晶片製造商、工具製造商和材料製造商合作發表論文，並在當時引入整合模組化語言（Unified Modeling language，UML）的軟體架構，在高度抽象與複雜度的研發環境，讓內外部科學家與工程師有共同藍圖與溝通工具，憑藉內外部研發與整合能力，迅速增強競爭實力。 繼續閱讀..

南韓在 EUV 技術專利積極追趕，恐成為台積電未來潛在威脅
作者 |發布日期 2020 年 11 月 16 日 11:40 |
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分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

根據南韓媒體《BusinseeKorea》的最新報導指出，由於極紫外光 (EUV) 曝光技術牽涉新一代半導體的生產，而且影響邏輯晶片與記憶體的先進製程，這使得南韓方面不斷強化其在專利上的申請數量。根據南韓知識產權局（KIPO）的統計數據顯示，2019 年南韓企業或單位提出有關 EUV 專利的申請數量首次超越國外企業，這將成為南韓企業未來發展 EUV 技術與產品的利器。

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