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南韓在 EUV 技術專利積極追趕,恐成為台積電未來潛在威脅

作者 |發布日期 2020 年 11 月 16 日 11:40 | 分類 晶圓 , 晶片 , 會員專區

根據南韓媒體《BusinseeKorea》的最新報導指出,由於極紫外光 (EUV) 曝光技術牽涉新一代半導體的生產,而且影響邏輯晶片與記憶體的先進製程,這使得南韓方面不斷強化其在專利上的申請數量。根據南韓知識產權局(KIPO)的統計數據顯示,2019 年南韓企業或單位提出有關 EUV 專利的申請數量首次超越國外企業,這將成為南韓企業未來發展 EUV 技術與產品的利器。

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