南韓在 EUV 技術專利積極追趕,恐成為台積電未來潛在威脅

作者 | 發布日期 2020 年 11 月 16 日 11:40 | 分類 晶圓 , 晶片 , 材料、設備 Telegram share ! follow us in feedly


根據南韓媒體《BusinseeKorea》的最新報導指出,由於極紫外光 (EUV) 曝光技術牽涉新一代半導體的生產,而且影響邏輯晶片與記憶體的先進製程,這使得南韓方面不斷強化其在專利上的申請數量。根據南韓知識產權局(KIPO)的統計數據顯示,2019 年南韓企業或單位提出有關 EUV 專利的申請數量首次超越國外企業,這將成為南韓企業未來發展 EUV 技術與產品的利器。

報導指出,KIPO 最新統計過去 10 年的專利申請報告指出,提交給 KIPO 有關於 EUV 曝光技術專利申請數量,在 2014 年為 88 件,在 2018 年達到 55 件,在 2019 年則是來到 50 件。其中,在 2019 年的 50 件專利申請當中,南韓企業或單位提交的數量為 40 件,國外企業則是提交 10 件的數量,這是南韓首次提交相關 EUV 相關專利數量超越國外,而且這樣的情況 2020 年預計還將持續維持。

由於 EUV 技術關係著邏輯晶片與記憶體的先進製程發展,這使得南韓企業一直在力求其相關的專利申請數量能夠追上國外企業。其中,EUV 技術當中包含多項關鍵,例如多層反射鏡,多層光罩,防護膜,光源等。這些重要的關鍵在過去 10 年中,包含南韓三星在內的全球重要科技公司都相繼投入,進行研究和開發,以確保技術領先。最近,晶圓代工場開始使用 5 奈米 EUV 曝光技術來生產相關邏輯晶片,就是其研究發展下的成果。

報導表示,如果以公司別來區分,全球 6 家主要針對 EUV 關鍵技術發展的企業,其相關專利的總申請量達到全部有關 EUV 專利申請量的 59%。其中,德國卡爾蔡司占 18%,南韓三星占 15%,荷蘭ASML 占 11%,南韓 S&S Tech 占 8%,台積電占 6%,南韓 SK 海力士為 1%。

另外,從相關技術專利申請部分來分析,處理技術專利的申請量占 32%,曝光設備技術的專利申請量占 31%,光罩技術的專利量占 28%,光罩的專利量則占 9%。至於,在製程技術領域方面,三星電子的申領量占 39%,台積電占 15%,這意味著這兩家公司就搶下了超過一半的比例。而在光罩領域方面,南韓 S&S Tech 占 28%,日本 Hoya 占 15%,南韓漢陽大學占 10%,日本 Asahi Glass 也有 10% 的比例,南韓三星則為 9%。

(首圖來源:科技新報攝)