大日本印刷株式會社 (DNP) 近日宣佈,成功開發出電路線寬為 10 奈米的 NIL 奈米壓印技術,可用於相當於 1.4 奈米等級的邏輯半導體電路圖形化。公司表示,該產品針對智慧型手機、資料中心、NAND Flash 等應用場景中先進邏輯晶片的微型化需求,目前已啟動客戶評估工作,計畫於 2027 年開始量產。DNP 同時提出,力爭在 2030 財年將奈米壓印相關業務的營收提升 40 億日元。
ASML 緊張了!日本 DNP 成功開發 10 奈米等級奈米壓印 |
| 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 12 月 15 日 17:00 | 分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備 |



