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台積電搶先三星收到 High-NA EUV,ASML 還給折扣

作者 |發布日期 2024 年 09 月 10 日 10:40 | 分類 半導體 , 材料、設備

進入 2 奈米以下埃米時代後,ASML 高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光機就成為先進製程半導體廠的關鍵。英特爾 4 月宣佈業界首套 High-NA EUV 組裝完成後,台積電月底也會引進首套 High-NA EUV,較外界猜測年底提前一季,也超車很想搶在台積電前面的三星。

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