挑戰台積電、ASML!美新創開發 X 光曝光技術,有望顛覆高價 EUV 晶片製造 作者 林 妤柔|發布日期 2025 年 10 月 29 日 9:50 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 零組件 | edit 美國新創公司 Substrate 週二(28 日)透露,他們已開發出一款晶片製造工具,有能力與荷蘭半導體設備龍頭 ASML 最先進曝光設備競爭。 繼續閱讀..
不只曝光機!中國祕密打造晶圓國家隊,科技突圍或顛覆台灣優勢? 作者 遠見雜誌|發布日期 2025 年 10 月 25 日 13:00 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 晶圓 | edit 一家成立不到 4 年的中國本土公司,為什麼能攪動中國整個半導體行業?原來,不只它旗下子公司有自行製造曝光機的潛力,還推出長期由美企壟斷的 EDA 軟體和高階示波器,背後則是深圳市政府攜手華為,祕密組建的半導體國家隊,或將為台灣半導體產業「帶來麻煩」。 繼續閱讀..
槍釘大廠駿吉切入 DDR 及半導體設備!記憶體拚今年第四季出貨 作者 姚 惠茹|發布日期 2025 年 09 月 18 日 15:04 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 材料、設備 | edit 工業槍釘大廠駿吉控股-KY 新團隊入主後首次亮相,董事長胡德立今日宣示將切入半導體設備,自有技術以「晶片導入設備」的商業模式,從成熟製程的電子束、曝光機、晶圓雷射切割機開始出發,並選定記憶體 DDR4、DDR5 的白牌晶片,力拚今年第四季開始出貨認列。 繼續閱讀..
ASML 發起中國線上技術知識競賽,意在吸納本土人才與因應市場競爭 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 06 月 30 日 15:30 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 零組件 | edit 根據南華早報的報導,全球半導體曝光機廠商艾司摩爾 (ASML) 於中國推出一項線上競賽,目的在推廣曝光技術知識,並發掘優秀工程師。另外,另外也希望藉此競賽強化在中國市場的影響力,以因應中國本土廠商在發展相關曝光技術與設備上的挑戰。 繼續閱讀..
關鍵設備仍待突破,中國先進晶片自主化另闢蹊徑 作者 拓墣產研|發布日期 2025 年 05 月 29 日 7:30 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 技術分析 | edit 「中國芯」是擺脫美國封鎖要件,惟關鍵仍在半導體製造設備,對中國來說,擺脫依賴美國及盟友,用自主可控軟硬體產品滿足中國本土需求,以所謂「內循環」抵銷出口衰退,並持續推動 AI、6G、衛星通訊等次世代科技,已成為首要課題,但先決條件是中國商必須取得先進晶片且足量。 繼續閱讀..
英特爾台灣區前總經理汪佳慧接任 ASML 台灣總經理 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 04 月 29 日 9:40 | 分類 人力資源 , 半導體 , 材料、設備 | edit 英特爾 28 日宣布,任命莊蓓瑜擔任業務行銷事業群副總裁暨台灣區總經理後,證實英特爾台灣區前總經理汪佳慧也接任全球半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 台灣總經理,日前上任。 繼續閱讀..
即使落後 19 年,俄羅斯有望 2030 年前實現國產 28 奈米晶片 作者 林 妤柔|發布日期 2025 年 04 月 24 日 11:31 | 分類 半導體 , 晶片 , 材料、設備 | edit 儘管面臨重重挑戰,俄羅斯仍希望如期 2030 年前啟動國產 28 奈米級製程晶片技術。據稱 28 奈米將幫助俄微處理器公司 MCST 打造性能符合俄企期望的 CPU。 繼續閱讀..
俄羅斯成功完成首套國產曝光機,但這是 30 年前的技術 作者 林 妤柔|發布日期 2025 年 03 月 31 日 17:11 | 分類 半導體 , 國際觀察 , 材料、設備 | edit 來自莫斯科的澤列諾格勒奈米技術中心(Zelenograd Nanotechnology Center,簡稱 ZNTC)與白俄羅斯半導體製造設備廠商 Planar 已開發俄國第一套可支援 350 奈米級製程技術(0.35 微米)的曝光系統。 繼續閱讀..
全球半導體曝光設備王者 ASML,起點是一座漏水棚子 作者 Atkinson|發布日期 2025 年 03 月 21 日 13:00 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 科技史 | edit 大家都知道荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 是全球先進晶片製造設備設計和供應商中無可爭議的領導者,其包括台積電、英特爾、三星等產業大廠所生產的最先進半導體,都高度依賴這家 成立於 1984 年公司的設備。而就 ASML 的歷史來說而言,公司至今亮眼的表現一切都是要從一個漏水的棚子開始的。 繼續閱讀..
英特爾:首批兩台 High-NA EUV 設備已投產,初期數據表現良好 作者 林 妤柔|發布日期 2025 年 02 月 25 日 9:42 | 分類 半導體 , 晶圓 , 材料、設備 | edit 英特爾 24 日表示,ASML 首批的兩台先進曝光機已投產,早期數據顯示比之前機型更可靠。 繼續閱讀..
產能過剩嚴重、美制裁效應,中國晶片製造設備採購量今年反轉 作者 中央廣播電台|發布日期 2025 年 02 月 14 日 8:10 | 分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備 | edit 《美國之音》報導,加拿大半導體研究公司 TechInsights 表示,歷經三年成長後,中國晶片製造設備採購量,今年可望下降,原因在中國半導體產業產能過剩,已到非解決不可的程度,另一個原因是美國制裁中國晶片產業持續擴大。 繼續閱讀..
粉絲扼腕!ASML EUV 樂高供不應求,僅限員工購買 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 12 月 23 日 9:20 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 科技趣聞 | edit 市場消息指出,曝光機商 ASML 取消非員工訂購限量版 Twinscan EXE:5000 樂高訂單。這款售價 230 美元(約新台幣 7,600 元)樂高是 3.8 億美元 High-NA EUV 高數值孔徑極紫外曝光機的微縮複刻,為紀念全球首套 High-NA EUV 誕生。 繼續閱讀..
具俄羅斯背景 ASML 前員工遭控竊取機密,遭荷蘭拘留並處 20 年入境禁令 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 12 月 10 日 15:30 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 晶圓 | edit 根據荷蘭媒體 NOS 的報導,一名具有俄羅斯背景的 ASML 前員工,因為涉嫌竊取 ASML 重要晶片文件檔而被荷蘭政府拘留。同時,荷蘭庇護和移民局近日已對該 ASML 前員工實施了 20 年的入境禁令。報導表示,過去荷蘭很少實施此類禁令,通常只針對涉及國家安全的案件才會做出此等措施。 繼續閱讀..
ASML 推 High-NA EUV 樂高模型,851 個零件復刻全球最貴曝光機 作者 林 妤柔|發布日期 2024 年 12 月 02 日 16:51 | 分類 半導體 , 材料、設備 , 科技趣聞 | edit 全球半導體設備龍頭 ASML 宣布將最先進曝光機「樂高化」,推出 High-NA EUV 曝光機 Twinscan EXE:5000 樂高模型,售價 227.95 美元(約新台幣 7,400 元),雖然價格相當高,但已比實機造價 3.8 億美元便宜多了。 繼續閱讀..
ASML:全球半導體銷售 2030 年破兆美元,五年複合成長率達 9% 作者 Atkinson|發布日期 2024 年 11 月 14 日 15:50 | 分類 半導體 , 國際貿易 , 材料、設備 | edit 半導體微影廠商艾司摩爾(ASML)2024 投資人會議,提出公司長期策略及全球市場和技術趨勢,預估到 2030 年營收約 440 億至 600 億歐元,毛利率 56%~60%。 繼續閱讀..