Tag Archives: 曝光機

產能過剩嚴重、美制裁效應，中國晶片製造設備採購量今年反轉
作者 |發布日期 2025 年 02 月 14 日 8:10 |
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分類 中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

《美國之音》報導，加拿大半導體研究公司 TechInsights 表示，歷經三年成長後，中國晶片製造設備採購量，今年可望下降，原因在中國半導體產業產能過剩，已到非解決不可的程度，另一個原因是美國制裁中國晶片產業持續擴大。 繼續閱讀..

具俄羅斯背景 ASML 前員工遭控竊取機密，遭荷蘭拘留並處 20 年入境禁令
作者 |發布日期 2024 年 12 月 10 日 15:30 |
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分類 IC 設計 , 半導體 , 晶圓

根據荷蘭媒體 NOS 的報導，一名具有俄羅斯背景的 ASML 前員工，因為涉嫌竊取 ASML 重要晶片文件檔而被荷蘭政府拘留。同時，荷蘭庇護和移民局近日已對該 ASML 前員工實施了 20 年的入境禁令。報導表示，過去荷蘭很少實施此類禁令，通常只針對涉及國家安全的案件才會做出此等措施。

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三大曝光機廠均下修業績，只憑台積電難力挽半導體復甦
作者 |發布日期 2024 年 11 月 02 日 15:30 |
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分類 半導體 , 材料、設備 , 財報

繼日前半導體曝光機大廠艾司摩爾 (ASML)、佳能 (Canon) 相繼下修年度財測目標後，另一家曝光機廠商尼康 (Nikon) 近日也宣布下修年度財測目標。所以，即使半導體製造龍頭台積電 2024 年第三季繳出亮眼成績，但單憑一家台積電的力量人無法挽救因半導體復甦緩慢、而導致的半導體設備商營收衰退趨勢。

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ASML 財報不如預期拖累半導體股，陸行之：好像不算大災難
作者 |發布日期 2024 年 10 月 16 日 10:20 |
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分類 半導體 , 材料、設備 , 財報

半導體設備商 ASML 第三季財報不如預期，導致股價大跌超過 16%，拖累半導體類股表現，也讓 16 日台股在權值股台積電領跌的情況下，加權指數盤中一度大跌近 300 點的情況，前外資知名分析師陸行之表示，公司還是預期 2025 年營收有近 20% 的年增，相較 2024 年沒增長，這好像也不算大災難。

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荷蘭擴大半導體曝光機出口管制！中國重批美國「脅迫個別國家」
作者 |發布日期 2024 年 09 月 09 日 8:22 |
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分類 半導體 , 國際貿易 , 材料、設備

美中貿易戰持續緊張，荷蘭宣布 9 月 7 日起，適用先進半導體製造設備的國家出口管制措施擴大，艾司摩爾（ASML）1970i 和 1980i 浸潤式微影系統深紫外光曝光機（DUV）受影響，中國商務部今日重批美國「脅迫個別國家」。

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ASML 預定 2030 年供應 Hyper-NA EUV，能否商業化關鍵就是成本
作者 |發布日期 2024 年 06 月 14 日 15:30 |
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分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

荷蘭商艾司摩爾 (ASML) EUV 曝光機為先進半導體生產關鍵，ASML 有序執行藍圖，首階段是標準 EUV 後迎接 High-NA EUV，去年底 ASML 就交貨英特爾首套 High-NA EUV。ASML 上週又證實，年底交貨台積電 High-NA EUV。半導體業剛準備邁入 High-NA EUV 時代，ASML 又開始研究下代機台 Hyper-NA EUV，尋找合適解決方案。

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