Tag Archives: 極紫外光

家登傳搶進 3 大廠供應鏈，先進半導體市場擴大領先

作者中央社|發布日期 2021 年 04 月 09 日 15:30 |

分類晶圓 , 晶片 , 材料、設備

傳載方案商家登極紫外光光罩傳送盒（EUV POD）成功搶進台積電、三星（Samsung）與英特爾（Intel）三大半導體廠供應鏈，在半導體先進製程領域擴大領先優勢。繼續閱讀..

挽救摩爾定律：ASML 極紫外光（EUV）微影技術量產的開發歷程

作者 TN Choice|發布日期 2021 年 02 月 15 日 0:00 |

分類晶片 , 材料、設備 , 零組件

2019 年底在舊金山舉辦的年度國際電子元件會議（IEDM）上，台積電公布的兩個報告標誌著積體電路製造邁入了 EUV 微影時代。第一個報告宣布了應用 EUV 微影技術的 7 奈米世代的改良版晶片已經於 2019 年正式量產，我們知道這個技術已經用在 2019 年生產的麒麟 990 5G 這顆有多於 100 億個電晶體的晶片上。

武漢肺炎疫情導致 3 大關鍵因素衝擊，ASML 下修 2020 年首季財測

作者 Atkinson|發布日期 2020 年 03 月 31 日 15:30 |

分類國際貿易 , 會員專區 , 材料、設備

就在武漢肺炎疫情衝擊全球經濟的當下，全球許多大型科技公司紛紛調降財測。而日前已經發布過 2019 年第 1 季財測數字的台積電重要供應商──光刻機大廠艾司摩爾（ASML）表示，雖然 2020 年的整體需求並沒有減少，而且武漢肺炎疫情對 ASML 的產能影響有限。但是，在 3 大因素的干擾下，ASML 還是必須下修 2020 年第 1 季的財務預測。