輝達（Nvidia Corp.）今年「GPU Technology Conference」（又稱 GTC 大會）宣布，台積電、電子設計自動化（EDA）軟體商新思科技（Synopsys）開始各自製程、軟體及系統用「cuLitho」軟體資料庫加速運算式微影（computational lithography），協助晶片商運用高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備等先進晶片製造工具，轉入 2 奈米以下電晶體時突破限制。 繼續閱讀..