輝達（Nvidia Corp.）今年「GPU Technology Conference」（又稱 GTC 大會）宣布，台積電、電子設計自動化（EDA）軟體商新思科技（Synopsys）開始各自製程、軟體及系統用「cuLitho」軟體資料庫加速運算式微影（computational lithography），協助晶片商運用高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備等先進晶片製造工具，轉入 2 奈米以下電晶體時突破限制。
Tom′s Hardware、Investing.com等外電報導，輝達執行長黃仁勳（Jensen Huang）18日新聞稿表示，運算式微影乃晶片製造的基石。台積電、Synopsys採納cuLitho加速晶片製造後，也支援輝達最新世代的Blackwell架構GPU。
舉例來說，運算式微影是運算負載最高的半導體製程，若使用CPU、每年得耗費數十億小時。光是典型晶片光罩組（為生產製程的關鍵步驟），就需3,000萬小時或更多的CPU運算時間，因此晶圓廠內都需要設置大型資料中心。
透過加速計算，如今只要內建350顆輝達H100的系統，就能取代內建四萬顆CPU的系統，能加速生產時間，同時降低成本、節省空間和能源。
輝達18日正常盤上漲0.7%，收884.55美元；盤後下挫1.76%至869美元。台積電ADR正常盤上漲0.16%，收136.64美元；盤後下跌0.25%至136.30美元。Synopsys正常盤上漲1.93%，收560.63美元；盤後續漲2.52%至574.74美元。
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