有助節省成本,三星成功減少 3D NAND 曝光製程光阻劑用量 作者 林 妤柔|發布日期 2024 年 11 月 27 日 18:34 | 分類 Samsung , 材料、設備 , 記憶體 | edit 韓媒 TheElec 報導,三星已成功大幅減少 3D NAND 快閃記憶體生產過程中曝光製程所使用的光阻劑(PR)。 繼續閱讀..