Tag Archives: DUV

半導體製程 EUV 王朝難撼動，Canon 力推奈米壓印都推不倒

作者 Atkinson|發布日期 2025 年 11 月 04 日 12:30 |

分類半導體 , 材料、設備

在半導體製造的最前線，曝光微影技術一直是決定晶片性能與製程節點演進的關鍵瓶頸。荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 憑藉深紫外光（DUV）與極紫外光（EUV）兔光機，建立起幾乎無可撼動的市場地位。然而，日本光學大廠佳能（Canon）正嘗試以另一條路徑突圍，那就是奈米壓印（Nanoimprint Lithography，NIL）。這項被視為「非光學」的新型圖案轉印技術，正被佳能定位為下一代晶片製程的潛在顛覆者。

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PAS、TWINSCAN 到 High-NA：每台 ASML 設備，都見證晶片微縮的關鍵時刻

作者林妤柔|發布日期 2025 年 11 月 01 日 8:30 |

分類半導體 , 晶圓 , 材料、設備

半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）幫助晶圓代工廠實現先進製程技術，而它的每一代設備，都意味著每一代技術的前沿時刻。《科技新報》也整理出 ASML 歷代最經典的幾款設備，帶讀者回顧晶片微縮的每一個關鍵時刻。繼續閱讀..

中國逆向工程 ASML DUV 曝光機，拆壞了還要求原廠協助

作者 Atkinson|發布日期 2025 年 10 月 21 日 16:00 |

分類中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

美中兩大強權在人工智慧（AI）領域的主導權競爭日益白熱化，高階晶片已成為這場新冷戰的核心戰場。自2018年美國對中國實施嚴厲的晶片銷售制裁以來，已對中國的高科技發展造成了真實且深遠的影響。根據近日的一項報導揭露，中國在對荷蘭 ASML 公司生產的曝光設備進行逆向工程時，疑似造成設備損壞，最終不得不向原廠尋求技術支援。

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台積電啟動 EUV 動態節能計畫，EUV 最大功耗降低 44%

作者 Atkinson|發布日期 2025 年 10 月 02 日 10:00 |

分類半導體 , 晶圓 , 晶片

做為全球最大的晶圓代工廠，台積電的營運消耗了龐大的電力，約占台灣總用電量的 9%。為了有效降低營運成本，並實現其永續發展目標，台積電於 2025 年 9 月啟動了一項名為「EUV 動態節能計畫」（EUV Dynamic Energy Saving Program），該計畫目的在於大幅削減以高耗電量著稱的極紫外光（EUV）曝光機的功耗。根據最新公布的成果，這項節能措施已顯示出顯著成效。

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俄羅斯公布 EUV 光刻工具藍圖，取代 DUV 技術計畫遭質疑

作者 TechNews 編輯台|發布日期 2025 年 09 月 30 日 12:30 |

分類半導體 , 材料、設備 , 零組件

俄羅斯科學院近日公布了 2026 年至 2037 年的極紫外光（EUV）光刻工具發展藍圖，計劃取代傳統深紫外光（DUV）光刻技術。

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中國測試首款自製 DUV，技術直逼 ASML 2008 年水準

作者蘇子芸|發布日期 2025 年 09 月 23 日 11:50 |

分類中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

中國正加速晶片製造設備的自主化腳步。《金融時報》報導，中芯國際（SMIC）近日開始測試由上海宇量昇科技開發的 DUV，這是中國首台能應用於晶圓製程的國產設備，被視為突破美國出口管制的重要一步。繼續閱讀..

你不知道的新創企業新凱來與宇量昇，在中國半導體自主扮演重要角色

作者 Atkinson|發布日期 2025 年 09 月 17 日 14:30 |

分類中國觀察 , 半導體 , 材料、設備

美國對中國半導體技術實施嚴格出口管制的背景下，中國正以前所未有的決心，試圖突破技術封鎖，實現晶片製造的全面自主化。這場史詩般的科技競賽中，華為扮演著核心推動者的角色，而像新凱來（SiCarrier）與宇量昇科技這樣的本土新創企業，則成為其攻克先進晶片製造技術的關鍵武器。這些企業不僅獲得了政府的鼎力支持，更在華為的深度參與下，劍指全球半導體巨頭，試圖改寫全球晶片產業的格局。

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