KLA-Tencor 兩款新量測設備，支援 16 奈米積體電路生產 |
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TechNews|發布日期
2015 年 03 月 05 日 14:06 |
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KLA-Tencor Corporation 在 5 日推出兩款先進的量測設備，可支援 16 奈米（含）以下尺寸積體電路元件的研發和生產：Archer™ 500LCM 和 SpectraFilm™ LD10。Archer 500LCM overlay 測量設備在提升良率的所有階段提供了準確的 overlay error 回饋，可協助晶片製造商解決與 patterning 創新技術，例如 multi-patterning 和 spacer pitch splitting 相關的 overlay 問題。 繼續閱讀..
KLA-Tencor 推出 5D 圖案成型控制解決方案的關鍵系統 |
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TechNews|發布日期
2014 年 08 月 27 日 17:06 |
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KLA-Tencor 公司今天宣佈，推出 WaferSight PWG 已圖案晶圓幾何形狀測量系統、LMS IPRO6 光罩圖案位置測量系統和 K-T Analyzer 9.0 先進數據分析系統。這三種新產品支援 KLA-Tencor 獨特的 5D 圖案成型控制解決方案，此方案著重於解決圖案成型製程控制上的五個主要問題 — 元件結構的三維幾何尺寸、時間效率和設備效率。 繼續閱讀..
KLA-Tencor 為領先的積體電路技術推出檢測與檢查系列產品 |
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TechNews|發布日期
2014 年 07 月 09 日 10:42 |
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今天，在「SEMICON West 國際半導體展」上，KLA-Tencor 公司宣佈推出四款新的系統 — 2920 系列、Puma 9850、Surfscan SP5 和 eDR-7110－－為 16nm 及以下的積體電路裝置研發與生產提供更先進的缺陷檢測與複查能力。 繼續閱讀..
KLA-Tencor 宣佈推出新型 Teron™ SL650 光罩檢測系統 |
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TechNews|發布日期
2014 年 05 月 22 日 10:22 |
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高產能和 193nm 技術有助於積體電路晶圓廠
經濟有效地監測 20nm 以下設計節點光罩
KLA-Tencor 公司今天宣佈推出 Teron™ SL650，該產品是專為積體電路晶圓廠提供的一種新型光罩品質控管解決方案，支援 20nm 及更小設計節點。Teron SL650 採用 193nm 照明及多種 STARlight™ 光學技術，提供必要的靈敏度和靈活性，以評估新光罩的品質，監控光罩退化，並檢測影響良率的光罩缺陷，例如在有圖案區和無圖案區的霧狀增長或污染。此外，Teron SL650 擁有業界領先的產率，可支援更快的生產週期，以滿足檢驗更多數量的先進多重曝光成型光罩的需要。 繼續閱讀..
美國光學檢測大廠科磊來台暢談產品策略與藍圖 |
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Sanada Yukimura|發布日期
2013 年 08 月 22 日 17:26 |
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光學檢測大廠科磊（KLA-Tencor）在8月21日的颱風天召開記者會前，所有媒體最為關心的就是台系電子束（E-beam）檢測設備大廠漢微科，是否會威脅科磊在晶圓代工與記憶體檢測設備市場的地位，科磊是否也有計畫搶回電子束檢測設備的市占率？而一向低調鮮少與媒體見面的科磊，此次有備而來，強調電子束的檢測速度太慢，光學檢測仍居於主流地位，同時亦宣布 2014 年將把設備訓練中心設在台灣，要拉攏台灣市場客戶的心。 繼續閱讀..
