大摩報告:想追上 Intel,台積電 10 奈米需仰賴 EUV 技術

作者 | 發布日期 2015 年 03 月 24 日 10:39 | 分類 晶片 , 零組件
取自美聯社

半導體產業近 50 年來一直在摩爾定律上發展,但自 28 奈米製程以來,卻因技術限制而漸漸背離,然而 Morgan Stanley 研究報告認為,若晶圓廠採用極紫外光(Extreme Ultraviolet,EUV )微影技術於 10 奈米製程,將有助於半導體產業回歸到摩爾定律上發展;Morgan Stanley 也認為,在 10 奈米製程大幅落後 Intel 的台積電,也有望靠著 EUV 迎頭趕上,消息一出,17 日台積電股價創下半個多月來最高漲幅。




Intel 在製程上領先競爭對手 2 年,預計在 2016 下半年或是 2017 上半年開始以自家研發的 10 奈米製程技術生產晶片。台積電則是在後頭苦苦追趕,2014 年 6 月啟動的夜鷹計畫即為了應戰 10 奈米,目前可能採用的製程技術像是多重曝光(multiple patterning),又或著是由艾司摩爾(ASML)研發的 EUV 機台。

 

EUV 符合效益並能直上 7 奈米

Morgan Stanley 相當看好 EUV 在 10 奈米的應用,他們預估在 2018 年時,EUV 就能在大規模應用在 10 奈米製程上,甚至可望在 2019 下半年直接推進到下一代 7 奈米製程。

目前 EUV 的難處就在於生產量,根據估算它要達到浸潤式微影機台(immersion tool)的 1/6 產量,對晶圓製造業來說轉換到 EUV 才具有經濟效益。浸潤式微影機台產量為每小時 250 片晶圓,也就是說 EUV 機台的產量要達到每小時 42 片晶圓,或是每天 1,000 片,Morgan Stanley 的報告中指出,艾司摩爾已經非常接進這個數字,他們甚至相信在 2015 年就能達成此一目標。

 

晶圓製造 Intel 相比代工廠沒有多少優勢

而 Intel 雖然在製程技術上領先,但 Morgan Stanley 對於該公司是否能因此獲利,以及是否能在晶圓製造上保有長久領先地位是較不樂觀的,其原因有三:第一,Intel 晶圓價格遠高於台積電等晶圓代工廠,抵消其技術上的領先;再者,與台積電等晶圓代工廠相比,同時為晶片設計公司的 Intel 跟其客戶之間存在競爭關係,因此接單較為不易;最後,Intel 先進製程是為高效能的微處理器而設計的,其他半導體產品不見得需要這麼精細的製程。

 

Morgan Stanley:追趕 Intel,台積電須仰賴 EUV

Morgan Stanley 大力看好 EUV,同時分析台積電較須仰賴 EUV,因為能藉此在 10 奈米製程趕上 Intel,還能在 7 奈米製程中拔得頭籌。消息一出,17 日台積電股價上漲,漲幅達 2.05%,為近半個月來最高,可見外界對於台積電 10 奈米製程的進度相當關注。

外資圈也有消息傳出,因為台積電 10 奈米製程技術大幅提升,先前將 14 奈米交由 Intel 代工的阿爾特拉(Altera)擬將 10 奈米轉交由台積電代工,預計本季可拍板定案。若訂單重回台積電手中,是台積電繼蘋果 A8 訂單後的另一大利多。

18 日台積電共同執行長劉德音在美林論壇中指出,10 奈米製程將於 2017 年將開始量產,2020 年將成為公司主力、帶來 55% 營收;不過他同時指出,EUV 技術將在 10 奈米製程後才開始採用。

 

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(首圖來源:達志影像) 

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