最近天氣熱到受不了，人們都想找方法消暑。對半導體製程重要的微影設備，在作業過程產生的熱能如何散熱，全球最大微影設備製造商艾司摩爾（ASML）說，以下 3 種就是讓微影設備保持恆溫的方式。
ASML 表示，微影設備是半導體製程重要的關鍵，設備效能直接影響積體電路的「關鍵尺寸」（CD）和 「疊對」（Overlay）。特別是積體電路製程邁入 7 奈米關鍵節點後，疊對精準度 2 奈米的現在，任何可能降低微影設備效能的因素都必須納入考量，溫度變化就是其中一環。
ASML 指出，因為微影設備的曝光能量，會使「成像鏡頭」（ Projection Lens）溫度升高，導致「像差」（Aberration），進而影響成像品質。另外，高劑量曝光會使「光罩」（Reticle）熱膨脹，加上晶圓平台的馬達線圈產生熱能，使「晶圓」（Wafer）膨脹變形，影響疊對精準度。必須將成像鏡頭、晶圓、光罩的溫度控制在攝氏 22 度 ±0.005 度範圍內，才能維持正常作業標準。
那麼，ASML 維持微影設備恆溫的方法有哪些？
第一，介質式溫控
大部分零件都利用介質式溫控，如：成像鏡頭、晶圓平台，以及各種馬達線圈。介質 「超純水」（UPW）流過恆溫循環水槽（攝氏 22 度）與被控零件交換熱能，維持零件溫度穩定。
第二，直接式溫控
某些特殊零件由於空間狹小，或特殊溫度要求，如光罩周邊，需採用直接式溫控維持光罩浴塵（Air Shower）的溫度。
第三，外部控溫
微影設備不僅內部零件需控溫裝置，外部的工作環境，以及運送過程的運輸工具（飛機、車輛等）也必須將溫度維持在攝氏 20~24 度。
（首圖來源：ASML）
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