荷蘭管制 DUV 出口，限制對準精度 2.5 奈米以上設備
作者 | 發布日期 2023 年 03 月 21 日 8:30 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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荷蘭管制 DUV 出口，限制對準精度 2.5 奈米以上設備

外媒報導，荷蘭 8 日表示，半導體技術出口將有新管制，於夏天前實施。微影曝光設備大廠艾司摩爾 (ASML) 隔天宣布，深紫外光微影曝光設備 (DUV) 必須申請許可證才能出口。

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