荷蘭管制 DUV 出口，限制對準精度 2.5 奈米以上設備

外媒報導，荷蘭 8 日表示，半導體技術出口將有新管制，於夏天前實施。微影曝光設備大廠艾司摩爾 (ASML) 隔天宣布，深紫外光微影曝光設備 (DUV) 必須申請許可證才能出口。

ASML 強調荷蘭政府新出口管制措施並不針對所有沉浸式微影曝光設備，先進程度相對較低的沉浸式微影曝光設備已能滿足以成熟製程為主的客戶。市場人士表示，雖然荷蘭政府新管制措施並沒有說明針對哪國，但 ASML 聲明明顯是針對中國。

荷蘭並未提及服務等會否有新限制。市場人士表示，已進口 DUV 大都還在關鍵零件壽命內，一般來說 DUV 必須 6 個月維護一次，替換或維修老化和損耗零件，只要正常維護保養，暫時對生產沒有影響。

照市場解讀，不受出口限制的 DUV 將停在對準精度 2.5 奈米以上設備。ASML 已上市的 DUV 為最高達 1.5 奈米的 NXT: 2050i。

對準精度指 DUV 製造晶片時，對準晶片和光罩圖案時能達到的最高精度。對準精度一般以奈米為單位，奈米值越小，產品越先進。沉浸式微影曝光設備屬光源 193 奈米產品，用於 16~7 奈米先進製程，業界廣泛應用為 45 奈米以下成熟製程。

(首圖來源：ASML)