華邦電與力成科技合作開發 2.5D 及 3D 先進封裝

作者 | 發布日期 2023 年 12 月 20 日 17:20 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 記憶體 line share follow us in feedly line share
華邦電與力成科技合作開發 2.5D 及 3D 先進封裝


半導體記憶體解決方案廠商華邦電 20 日宣布,與半導體封測廠力成科技簽訂合作意向書,兩家公司將共同開發 2.5D 及 3D 先進封裝業務,搶攻先進封裝市場。

華邦電表示,隨著 AI 技術快速演變,市場對高頻寬及高速運算的需求激增,進而帶動先進封裝及異質整合技術的需求。華邦電做為記憶體業界領先者,攜手業界封測領導廠商力成科技共同引領此技術浪潮,以提供異質整合封裝技術。

華邦電強調,本合作業務開發專案之合作方式將由華邦電提供 CUBE (客製化超高頻寬元件) DRAM,以及客製化矽中介層 (Silicon-Interposer)、同時整合去耦電容 (Decoupling Capacitor)等先進技術,搭配力成科技所提供之 2.5D 及 3D 封裝服務,使得這項戰略合作能夠助力市場對先進封裝的強烈需求,以符合客戶期望。

華邦電進一步指出,創新之矽中介層技術與力成科技 2.5D 及 3D 異質整合封裝技術結合後,將完整達成高效能邊緣 AI 運算的需求。其中,搭配華邦最新發表的 CUBE,若選擇利用 3D 堆疊技術並結合異質鍵合技術 (Hybrid Bond),將可滿足邊緣 AI 運算裝置不斷成長的記憶體需求,是華邦電達成跨平台與介面部署的重要一步。

(首圖來源:科技新報攝)