Canon:奈米壓印降低先進製程生產成本,拉近與 ASML 差距 作者 Atkinson | 發布日期 2023 年 12 月 26 日 7:10 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 | edit Loading... Now Translating... 全球曝光機生產大廠之一日本佳能 (Canon),10 月 13 日宣布推出 FPA-1200NZ2C 奈米壓印 (NIL) 半導體設備後,日前執行長御手洗富士夫表示,新奈米壓印技術為小型半導體商生產先進晶片開闢新道路,不讓先進晶片技術由大型半導體商獨享。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: ASML , Canon , EUV , 奈米壓印