全球曝光機生產大廠之一日本佳能 (Canon)，10 月 13 日宣布推出 FPA-1200NZ2C 奈米壓印 (NIL) 半導體設備後，日前執行長御手洗富士夫表示，新奈米壓印技術為小型半導體商生產先進晶片開闢新道路，不讓先進晶片技術由大型半導體商獨享。
Canon 半導體設備業務部長岩本和德表示，奈米壓印就是把印有半導體電路圖的光罩壓印到晶圓上，只壓印一次，就可在合適位置形成複雜 2D 或 3D 電路圖，如果改進光罩，甚至能生產 2 奈米晶片。Canon 奈米壓印可生產最小 5 奈米製程體。5 奈米製程先進半導體製造設備市場由 ASML 的 EUV 曝光機主導，Canon 奈米壓印或許有機會縮小與 ASML 的差距。
設備成本方面，岩本和德表示，客戶成本因條件各異，估算一次壓印工序成本有時能降至傳統曝光設備工序的一半。奈米壓印設備體積也較小，較易引進。御手洗富士夫曾表示，奈米壓印設備價格比 ASML EUV 設備少一個零。但最終定價還未公開。
客戶方面，Canon 表示收到半導體廠商、大學、研究所很多詢問，期待是 EUV 的替代品，預估可生產快閃記憶體、個人電腦 DRAM 及邏輯等多種半導體。
(首圖來源：Canon)
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