ASML 攜 Imec 合建實驗室，供客戶測試最新 High NA EUV 設備

全球半導體製造設備龍頭 ASML 週一（3 日）表示，已與比利時晶片研究公司 Imec 合作，於荷蘭 Veldhoven 開設專為 High NA EUV 曝光設備的測試實驗室。

這間實驗室斥資 3.5 億歐元，經過多年建設，旨在為領先的晶片製造商和其他設備與材料供應公司提供早期使用 High NA EUV 設備的機會。ASML 在曝光設備市場占主導地位，目前只有台積電、三星、英特爾及 SK 海力士能使用 ASML 當前一代的 EUV 設備進行生產。

新 High NA 設備可將解析度提高 60%，有望帶來更小、更快的新一代晶片。ASML 預計，客戶將在 2025 至2026 年開始使用這款設備，進行商業製造。迄今為止，ASML 只向英特爾交貨一台測試設備，後者計畫 2025 年將該工具用於 14A 製程。

儘管 ASML 最大 EUV 設備客戶台積電預期，A16 晶片不需要使用High NA 設備，但 ASML 已接到十幾個訂單，顯示市場對這一頂尖技術的強勁需求。

• ASML, Belgium’s Imec open laboratory to test newest chip-making tool

（首圖來源：ASML）

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