外媒報導，美國政府投資價值約 10 億美元研究中心，以開發下一代極紫外光（EUV）製程技術，挑戰荷蘭產業領導者艾司摩爾 (ASML)。
美國政府支助價值 8.25 億美元的 EUV 設備將設於 Albany NanoTech Complex，成為首個「為美國晶片而生」（CHIPS for America）計畫的 R&D 旗艦設施，並將獲得額外使用者資金。半導體設備商應材 (Applied Materials) 預計將成為主要參與者之一，以直接與 ASML 競爭。面對競爭，ASML 於 2024 年 6 月與比利時 imec 合作，開設類似實驗室。
EUV 設備將專注開發最先進的高數值孔徑 EUV 研發。美國表示，EUV 曝光技術已成為達成 7 奈米以下電晶體大量生產的關鍵技術，包括台積電等主要晶片製造商都採取相關技術。因此，美國政府表示，獲得 EUV 曝光技術研發的機會，對於延續美國的半導體技術領先地位、縮短原型開發時間和成本，以及建立和維持半導體人才生態系統非常重要。
美國國家半導體技術中心 (NTSC) 及母組織 Natcast 成員將於 2025 年獲得標準 EUV 曝光設備的使用權，並於 2026 年獲得 High-NA EUV 曝光機的使用權。從 2024 年開始，ASML 已經開始向英特爾和其他晶片製造商提供 High-NA EUV 曝光機。美國商務部長 Gina Raimondo 表示，透過這個旗艦設施，CHIPS for America 計畫為 NSTC 提供了先進研究和工具的機會，並啟動代表著確保美國在創新和半導體研發方面保持全球領導地位的重要里程碑。
Albany NanoTech Complex 現已成為由 IBM 轉型而出的非營利組織 NY Creates 一部分，將於 2025 年開始初期營運，並允許 Natcast、NY Creates 和 NSTC 成員合作，開展研發活動。對此，美國商務部標準與技術副部長兼國家標準與技術研究所所長 Laurie Locascio 表示，憑藉 20 年培育有效公私合作夥伴關係的經驗，以及自成立以來在半導體研發、製造和人才發展方面投資超過 250 億美元，NY Creates 處於獨特地位，可以支持 NSTC 的使命，提供開放環境以加速研究、縮短商業化時間，並在美國培育可持續的半導體生態系統。
Synopsys 前高層、也是當前 Natcast 執行長的 Deirdre Hanford 指出，CHIPS for America 的 EUV 設備強調致力美國開發和推進下一代半導體技術的承諾。與 NY Creates 合作，使 Natcast 和 NSTC 成員獲必要 EUV 曝光機和流程，以促進更廣泛的研究，並加速未來技術的商業化。
(首圖來源：ASML)
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