ASML 交貨英特爾首套 High-NA EUV 曝光機，總價逾 3 億美元
作者 | 發布日期 2023 年 12 月 22 日 10:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 會員專區 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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ASML 交貨英特爾首套 High-NA EUV 曝光機，總價逾 3 億美元

曝光機大廠 ASML 21 日宣布，已運送業界首套數值孔徑為 0.55（High-NA）極紫外線（EUV）曝光機給英特爾。英特爾之前表示，首套 High-NA EUV 曝光機將用於學習如何生產 Intel 18A 先進製程，有望使英特爾領先對手台積電和三星。

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