拿下業界第一!英特爾下週公開 High-NA EUV 應用最新進度與成果

作者 | 發布日期 2024 年 04 月 12 日 13:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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拿下業界第一!英特爾下週公開 High-NA EUV 應用最新進度與成果

台積電、三星、英特爾三家先進製程展開激烈競爭,台積電雖然市占率持續領先,有許多大客戶訂單,但曾是全球半導體技術龍頭的英特爾也繼續追趕,不但日前公布「四年五節點」後的 Intel 14A,更領先其他競爭對手,優先取得 ASML 高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV),精進先進製程。英特爾下週將舉行說明會,公布應用規劃。

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