台積電：A16 製程不一定要用艾司摩爾 High NA EUV |
作者
中央社 |
發布日期
2024 年 05 月 15 日 9:01 |
分類
半導體
, 材料、設備
, 零組件
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台積電業務開發資深副總經理張曉強 14 日表示，台積電 A16 製程節點不一定要用到艾司摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV）。
路透社報導，張曉強在荷蘭阿姆斯特丹研討會表示，A16廠設計可能容納High-NA EUV，但並非定案。台積電是艾司摩爾一般極紫外光曝光機的最大客戶。
14日稍早，台積電歐洲子公司總經理狄波特（Paul de Bot）也在荷蘭研討會透露，台積電德國歐洲首座廠擬於第四季動工。狄波特表示，建廠作業進行中。
台積電去年8月同意投資35億歐元（約新台幣1,222億元），在德國設立首座歐洲晶圓廠。
（首圖來源：科技新報）
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