降低半導體生產成本，ASML 推通用型 EUV 微影曝光機
作者 | 發布日期 2024 年 05 月 23 日 10:30 | 分類 半導體 , 會員專區 , 材料、設備 line share Linkedin share follow us in feedly line share
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降低半導體生產成本，ASML 推通用型 EUV 微影曝光機

荷蘭媒體 Bits&Chips 報導，曝光微影設備大廠艾司摩爾 (ASML) 顧問兼前技術長 Martin van den Brink 表示，ASML 考慮推出通用型 EUV 微影曝光機，因應市場需求。

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