台積電高層透露，仍在評估未來製程是否要使用荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding N.V.）的尖端 High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光）微影設備。
路透社27日報導，這款尖端機台要價將近4億美元、幾乎是晶圓廠當前最昂貴設備的兩倍，晶片製造商目前還在評估，其曝光速度與解析度的提升，是否真的值這個價。
被問到公司是否計劃在即將推出的A14製程使用上述機台時，業務開發資深副總裁張曉強（Kevin Zhang）在記者會表示，台積電還沒看到非用不可的理由。
張曉強說，「A14就算不用High-NA，效能也已相當強大。因此我們的技術團隊會繼續開發微縮（scaling）效益，設法延展Low-NA EUV（低數值孔徑極紫外光）微影設備的壽命。」「只要團隊能繼續找到解方，我們顯然沒有使用High-NA的必要」。
相較之下，台積電對手英特爾（Intel Corp.）已計劃在未來製程「14A」使用High-NA EUV機台，試圖藉此振興晶圓代工事業、提升對台積電的競爭力。不過，英特爾也表示，客戶依舊可選擇使用舊款且獲得實證的技術。
（本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載；首圖來源：shutterstock）
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