7 奈米敗象已露?三星改暢談 3 奈米技術路圖

作者 | 發布日期 2018 年 09 月 05 日 11:30 | 分類 Samsung , 晶片 , 零組件 line share Linkedin share follow us in feedly line share
7 奈米敗象已露?三星改暢談 3 奈米技術路圖

三星週二舉行晶圓代工技術論壇(Samsung Foundry Forum),同時揭露發展 3 奈米製程的技術路圖,以及 7 奈米投產進度,將搶攻高端運算與聯網裝置市場。

三星晶圓代工部門總裁鄭恩昇(E.S. Jung)表示, 3 奈米製程將首度導入閘極全環(GAA)電晶體,這是下一世代電晶體架構,並將配合極紫外光(EUV)微影設備,來克服物理限制。(cdrinfo.com)

三星 7 奈米是第一個採用 EUV 技術的半導體製程,按計畫將在 2018 下半年投產。據三星表示,關鍵矽智財(IP)已在開發,將於 2019 年上半年完成。

有趣的是,三星表示 7 奈米將應用在網路、汽車領域,而非效能要求較高的繪圖處理器(GPU),意謂著三星 7 奈米技術似乎未能獲得 NVIDIA 與 AMD 青睞。

AMD 日前已宣布下一世代 Zen 2 中央處理器與 Navi 繪圖處理器,都將交予台積電以 7 奈米製程代工。

(本文由 MoneyDJ新聞 授權轉載;首圖來源:Flickr/g0d4ather CC BY 2.0)

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