半導體先進製程必備 AMC 防治!濾能預計 6 月下旬掛牌上櫃 作者 姚 惠茹 | 發布日期 2022 年 05 月 31 日 17:05 | 分類 晶圓 , 會員專區 , 材料、設備 | edit 濾能董事長黃銘文今日表示,當半導體走向 3 奈米先進製程,對於無塵室 AMC 微污染控制的要求就越高,因此隨著半導體產業持續擴廠,濾能未來營運都能維持樂觀成長態勢,預計今年 6 月下旬掛牌上櫃,並將在明日舉辦業績發表會。 文章看完覺得有幫助,何不給我們一個鼓勵 請我們喝杯咖啡 想請我們喝幾杯咖啡? 每杯咖啡 65 元 x 1 x 3 x 5 x 您的咖啡贊助將是讓我們持續走下去的動力 總金額共新臺幣 0 元 《關於請喝咖啡的 Q & A》 留給我們的話 取消 確認 從這裡可透過《Google 新聞》追蹤 TechNews 科技新知,時時更新 科技新報粉絲團 加入好友 訂閱免費電子報 關鍵字: AMC , 上櫃 , 微污染控制 , 濾能 , 無塵室