外媒指 EUV 是節能減碳巨大絆腳石，台韓都面臨再生能源短缺

彭博社報導，先進半導體製程不可或缺的 EUV 微影曝光設備，可說是現代工程奇蹟。荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 生產的半導體設備，不但每套價值 1.5 億美元，更由 10 萬個零件組成，是生產個位數奈米級晶片的重要設備。只是一套 EUV 微影曝光設備每年耗電量達 1 兆瓦，是前幾代設備 10 倍，還沒有替代品的情況下，半導體產業還是全球推動節能減碳的巨大絆腳石。