Tag Archives: 背後供電

台積電超級電軌背後供電技術比英特爾技術更複雜,可提高晶片效能

作者 |發布日期 2024 年 05 月 06 日 9:15 | 分類 IC 設計 , 半導體 , 財經

晶圓代工龍頭台積電北美技術論壇發表 A16 節點製程,除了容納更多電晶體,提升運算效能,更降低能耗。更令人關切的,在 A16 晶片導入結合超級電軌 (Super PowerRail) 架構與奈米片電晶體,帶動運算速度更快、更有效率的資料中心處理器發展。

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英特爾、三星積極布局背後供電技術,競爭台積電先進製程市場

作者 |發布日期 2023 年 08 月 19 日 11:00 | 分類 半導體 , 晶圓 , 晶片

隨著摩爾定律的演進,電晶體越來越小,密度越來越高,堆疊層數也越來越多,可能需要穿過 10~20 層堆疊才能為下方電晶體提供電源和數據訊號,這導致互連線和電源線共存的線路層變成了一個越來越混亂的網路。同時,電子在向下傳輸的過程中,會出現 IR 壓降現象,導致電力損失產生。

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英特爾 PowerVia 背後供電提升 6% 運算頻率,Intel 20A 採用

作者 |發布日期 2023 年 08 月 07 日 8:45 | 分類 IC 設計 , 公司治理 , 半導體

處理器大廠英特爾 (Intel) 介紹 PowerVia 背後供電技術,並指出 Intel 20A 是首個採用 PowerVia 背後供電技術及 RibbonFET 全環繞柵極電晶體的製程,2024 上半年生產準備就緒,提供量產消費性 ARL 處理器平台,目前在晶圓廠啟動 First Stepping 早期階段。

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